电磁场分布调整装置以及微波加热装置制造方法及图纸

技术编号:21959539 阅读:9 留言:0更新日期:2019-08-24 22:48
微波加热装置具有:加热室,其收纳被加热物;微波产生器,其构成为生成微波;波导管,其构成为将微波引导至加热室;以及电磁场分布调整装置,其设置于加热室内的规定的二维区域中。电磁场分布调整装置具有多个金属片和多个开关。多个金属片以填充该二维区域的方式排列。多个开关连接多个金属片。通过利用多个开关中的至少两个开关将多个金属片中的一个金属片与和该一个金属片相邻的金属片中的最多两个金属片连接,从而构成串联连接金属片列。根据本方式,能够实现抑制加热效率的降低并且更加均匀地加热被加热物的低成本的电磁场分布调整装置。

Electromagnetic Field Distribution Adjustment Device and Microwave Heating Device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电磁场分布调整装置以及微波加热装置
本公开涉及电磁场分布调整装置以及具有该电磁场分布调整装置的微波加热装置。
技术介绍
在微波炉等微波加热装置中,优选对收纳在加热室中的被加热物进行均匀加热而不会加热不均。为了达成该目的,考虑了各种结构(例如,参照专利文献1~3)。在专利文献1中,公开了使载置的被加热物旋转的转台。在专利文献2中公开了一种旋转天线,该旋转天线构成为一边旋转一边向加热室提供微波。在专利文献3中公开了一种电磁场分布调整装置,该电磁场分布调整装置具有配置成矩阵状的多个金属片和连接相邻的两个金属片的多个开关,并构成为使金属片附近的阻抗变化。现有技术文献专利文献专利文献1:日本实公昭58-005842号公报专利文献2:日本特开昭53-092939号公报专利文献3:国际公开第2015/133081号
技术实现思路
但是,根据专利文献1所记载的专利技术,因加热室内产生的驻波而呈同心圆状地产生加热不均。根据专利文献2所记载的专利技术,加热的强度根据距天线的距离而变化,由此产生加热不均。根据专利文献3所记载的专利技术,因开关工作时产生的电力损耗而导致加热效率受损。此外,在专利文献3所记载的专利技术中,需要对多个开关进行物理布线,对它们同时进行控制。因此,将专利文献3所记载的专利技术用于微波炉那样的民用设备时在成本方面并不容易。本公开是为了解决上述课题而提出的,其目的在于实现一种抑制加热效率的降低并且更均匀地加热被加热物的低成本的电磁场分布调整装置。本公开的一个方式的电磁场分布调整装置具有:多个金属片,它们以填充规定的二维区域的方式进行排列;多个开关,它们连接多个金属片;以及串联连接金属片列,其包含如下部分:该部分是利用多个开关中的至少两个开关将多个金属片中的一个金属片与和该一个金属片相邻的金属片中的最多两个金属片连接而构成的。根据本方式,能够实现抑制加热效率的降低并且更均匀地加热被加热物的低成本的电磁场分布调整装置。附图说明图1是具有本公开的实施方式1的电磁场分布调整装置的微波加热装置的立体图。图2是具有实施方式1的电磁场分布调整装置的微波加热装置的纵剖视图。图3是实施方式1的电磁场分布调整装置的俯视图。图4是实施方式1的电磁场分布调整装置的立体图。图5是示出闭合了开关的情况下的电磁场分布调整装置附近的电场分布E1的图。图6是示出断开开关的情况下的电磁场分布调整装置附近的电场分布E2的图。图7是示出实施方式1的电磁场分布调整装置所包含的开关的一例的图。图8是实施方式1的变形例的电磁场分布调整装置的俯视图。图9是具有本公开的实施方式2的电磁场分布调整装置的微波加热装置的立体图。图10A是示出实施方式2的电磁场分布调整装置的具体结构和动作模式的结构框图。图10B是示出实施方式2的电磁场分布调整装置的具体结构和动作模式的结构框图。图10C是示出实施方式2的电磁场分布调整装置的具体结构和动作模式的结构框图。图11A是实施方式2的变形例的电磁场分布调整装置的俯视图。图11B是示出实施方式2的变形例的电磁场分布调整装置的具体结构的结构框图。图12是本公开的实施方式3的微波加热装置的立体图。图13是本公开的实施方式4的微波加热装置的立体图。图14是本公开的实施方式5的微波加热装置的立体图。图15是实施方式5的第一变形例的微波加热装置的立体图。图16是实施方式5的第二变形例的微波加热装置的立体图。具体实施方式本公开的第一方式的电磁场分布调整装置具有:多个金属片,它们以填充规定的二维区域的方式进行排列;多个开关,它们连接多个金属片;以及串联连接金属片列,其包含如下部分:该部分是利用多个开关中的至少两个开关将多个金属片中的一个金属片与和该一个金属片相邻的金属片中的最多两个金属片连接而构成的。根据本公开的第二方式的电磁场分布调整装置,在第一方式中,多个金属片各自的一边具有小于微波的波长的一半的长度。关于本公开的第三方式的电磁场分布调整装置,在第一方式的基础上,还具有:接地导体,其沿着二维区域设置;多个短接导体,它们将多个金属片与接地导体连接。根据本公开的第四方式的电磁场分布调整装置,在第一方式中,当断开多个开关时,电磁场分布调整装置在多个金属片的附近具有实质上无限大的阻抗,当闭合多个开关时,该电磁场分布调整装置在多个金属片的附近具有实质上为零的阻抗。关于本公开的第五方式的电磁场分布调整装置,在第一方式的基础上,该电磁场分布调整装置还具有电位确定部,该电位确定部构成为确定串联连接金属片列的电位。根据本公开的第六方式的电磁场分布调整装置,在第一方式中,串联连接金属片列配置在二维区域的一部分。本公开的第七方式的微波加热装置具有:加热室,其收纳被加热物;微波产生器,其构成为生成微波;波导管,其构成为将微波引导至加热室;以及电磁场分布调整装置,其设置在加热室内的规定的二维区域中。电磁场分布调整装置具有多个金属片和多个开关。多个金属片以填充该二维区域的方式排列。多个开关连接多个金属片。利用多个开关中的至少两个开关将多个金属片中的一个金属片与和该一个金属片相邻的金属片中的最多两个金属片连接,从而构成串联连接金属片列。根据本公开的第八方式的微波加热装置,在第七方式中,电磁场分布调整装置设置于加热室内的至少一个壁面。根据本公开的第九方式的微波加热装置,在第八方式中,电磁场分布调整装置设置于至少一个壁面的一部分。根据本公开的第十方式的微波加热装置,在第七方式中,电磁场分布调整装置可装卸地设置于加热室内的任意壁面。根据本公开的第十一方式的微波加热装置,在第七方式中,电磁场分布调整装置设置在波导管的开口附近。以下,参照附图对本公开的实施方式进行说明。在以下的附图中,对相同的部分标注相同的参照标号而省略重复的说明。(实施方式1)图1、图2分别是本公开的实施方式1的微波加热装置1A的立体图、纵剖视图。在本实施方式中,微波加热装置1A是具有加热室2的微波炉。在图1中,为了能够看到加热室2的内部,省略了加热室2的近前侧的壁。如图1、图2所示,微波加热装置1A除了加热室2之外,还具有微波产生器3、波导管4以及电磁场分布调整装置5A。在本公开中,将加热室2的前后方向、左右方向、上下方向分别定义为X方向、Y方向、Z方向。加热室2在其前表面开口设置有门(未图示),在其内部空间收纳被加热物6。微波产生器3由磁控管等构成,生成微波。波导管4将微波从微波产生器3引导至加热室2。在本实施方式中,波导管4的开口设置在加热室2的侧壁。电磁场分布调整装置5A设置在加热室2内的规定的二维区域。电磁场分布调整装置5A使与加热室2的内部空间相面对的面上的阻抗变化。由此,电磁场分布调整装置5A使其附近的电磁场分布即驻波分布变化。其结果是,能够使被加热物6的加热分布变化,均匀地加热被加热物6。若将被加热物6载置在电磁场分布调整装置5A的附近,则容易得到均匀加热的效果。在本实施方式中,规定的二维区域是加热室2的底面整体。在该情况下,被加热物6配置在电磁场分布调整装置5A上。图3、图4分别是电磁场分布调整装置5A的俯视图、立体图。如图3、图4所示,电磁场分布调整装置5A具有多个金属片11、多个开关12、多个短接导体13以及接地导体14。接地导体14沿着加热室2的底面设置。接地导体14相当于电磁场分布调整本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电磁场分布调整装置,其具有:多个金属片,它们以填充规定的二维区域的方式进行排列;多个开关,它们连接所述多个金属片;以及串联连接金属片列,其包含如下部分:该部分是利用所述多个开关中的至少两个开关将所述多个金属片中的一个金属片与和所述一个金属片相邻的金属片中的最多两个金属片连接而构成的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.01.10 JP 2017-0015531.一种电磁场分布调整装置,其具有:多个金属片,它们以填充规定的二维区域的方式进行排列;多个开关,它们连接所述多个金属片;以及串联连接金属片列,其包含如下部分:该部分是利用所述多个开关中的至少两个开关将所述多个金属片中的一个金属片与和所述一个金属片相邻的金属片中的最多两个金属片连接而构成的。2.根据权利要求1所述的电磁场分布调整装置,其中,所述多个金属片各自的一边具有小于微波的波长一半的长度。3.根据权利要求1所述的电磁场分布调整装置,其中,该电磁场分布调整装置还具有:接地导体,其沿着所述二维区域设置;以及多个短接导体,它们将所述多个金属片与所述接地导体连接。4.根据权利要求1所述的电磁场分布调整装置,其中,当断开所述多个开关时,所述电磁场分布调整装置在所述多个金属片的附近具有实质上为无限大的阻抗,当闭合所述多个开关时,所述电磁场分布调整装置在所述多个金属片的附近具有实质上为零的阻抗。5.根据权利要求1所述的电磁场分布调整装置,其中,所述串联连接金属片列配置在所述二维区域的一部分。6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:贞平匡史吉野浩二久保昌之桥本修须贺良介
申请(专利权)人:松下电器产业株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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